科學(xué)研究|向列相液晶在紫外輻照聚酰亞胺薄膜上的取向行為

引言：

日本愛媛大學(xué)研究生院理工學(xué)研究科 Yuji Tsukamoto 團(tuán)隊(duì)（合作單位：大阪大學(xué)研究生院工學(xué)研究科）在《Japanese Journal of Applied Physics》（2024 年第 63 卷 11SP14 期）發(fā)表研究，聚焦紫外輻照對聚酰亞胺薄膜表面狀態(tài)及液晶取向行為的影響，為液晶顯示、光學(xué)快門等器件的光配向技術(shù)提供實(shí)驗(yàn)支撐。

摘要（Abstract）

盡管已有多種預(yù)傾角控制方法，但液晶在表面的取向機(jī)制仍不明確。本研究探究了紫外劑量可控預(yù)傾角的聚酰亞胺薄膜表面狀態(tài)與液晶取向行為的關(guān)系。結(jié)果顯示，薄膜在 200 nm 和 260 nm 波長處的吸光度顯著下降，厚度減少約 4 nm；摩擦處理后厚度再減少約 2 nm。原子力顯微鏡證實(shí)紫外輻照與摩擦處理會(huì)改變分子構(gòu)象。對紫外輻照聚酰亞胺薄膜的表面自由能色散分量與極性分量分析發(fā)現(xiàn)，僅極性分量隨紫外劑量變化。此外，隨著紫外輻照增強(qiáng)，液晶取向從垂面取向轉(zhuǎn)變?yōu)槠矫嫒∠颍翌A(yù)傾角分布可實(shí)現(xiàn)空間調(diào)控。該結(jié)果為建立預(yù)傾角控制的光配向方法提供支撐。

紫外輻照實(shí)驗(yàn)

聚酰亞胺薄膜采用高壓汞氙燈（濱松光子學(xué)，LC8 L9566-01A）進(jìn)行紫外輻照。為評估表面自由能與預(yù)傾角對紫外劑量的依賴性，設(shè)置兩組實(shí)驗(yàn)條件：（1）紫外輻照強(qiáng)度固定為 515 mW/cm2（365 nm 波長處），輻照時(shí)間 0~300 s；（2）輻照時(shí)間固定為 200 s，輻照強(qiáng)度 0~773 mW/cm2。紫外輻照強(qiáng)度通過硅光電二極管功率計(jì)（Ophir Laser Measurement，VEGA 7Z01560）測量，輻照后沖洗薄膜以去除光降解表面分子。

摩擦處理實(shí)驗(yàn)

采用EHC RM-50配向摩擦試驗(yàn)機(jī)對聚酰亞胺薄膜進(jìn)行單軸均勻摩擦。將兩片經(jīng)摩擦處理的基板用含直徑 15 μm 球形二氧化硅間隔物的光學(xué)膠粘劑（Norland，NOA68T）組裝成夾層式液晶盒，注入向列相液晶 5CB（Merck，K-15）；注入溫度設(shè)為 40.0 °C，隨后以 1.0 °C/min 的速率冷卻至 25.0 °C，用于后續(xù)液晶取向行為觀察。

（EHC RM-50配向摩擦試驗(yàn)機(jī)）

結(jié)論：

本研究探究了紫外輻照前后聚酰亞胺薄膜的表面狀態(tài)與液晶取向行為之間的關(guān)系。對紫外輻照后聚酰亞胺薄膜的吸收光譜及厚度測量結(jié)果證實(shí)，薄膜經(jīng)紫外照射后會(huì)發(fā)生數(shù)納米級的光降解。此外，摩擦處理會(huì)導(dǎo)致薄膜厚度進(jìn)一步減小，這表明機(jī)械應(yīng)力改變了薄膜的表面結(jié)構(gòu)。原子力顯微鏡（AFM）觀察發(fā)現(xiàn)，薄膜表面形貌發(fā)生顯著變化：光降解作用使表面形成深溝槽與圓柱形凸起，而摩擦處理則可使薄膜表面趨于平整。

進(jìn)一步地，本研究通過測量紫外輻照后聚酰亞胺薄膜的接觸角來評估其表面自由能。以往研究多僅評估總表面自由能，而本研究則對表面自由能的色散分量與極性分量進(jìn)行了單獨(dú)分析，并探究了二者對預(yù)傾角的影響。研究明確得到了表面自由能隨紫外輻照劑量的變化規(guī)律：結(jié)果顯示，隨紫外輻照劑量改變，色散分量保持恒定，僅極性分量發(fā)生變化。

接下來，本研究觀察了紫外輻照聚酰亞胺薄膜表面液晶的取向行為。隨著紫外輻照劑量的增加，液晶預(yù)傾角逐漸減小。研究證實(shí)，預(yù)傾角可在約 90°至 0° 的全范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)調(diào)控。此外，通過對紫外輻照時(shí)間進(jìn)行空間調(diào)控，可實(shí)現(xiàn)預(yù)傾角的分布控制。因此，本研究將為建立預(yù)傾角可控的光配向方法提供支撐，對液晶器件的設(shè)計(jì)具有重要意義。